审查专利是否侵权的两个基本原则

  审查专利是否侵权的两个基本原则

    一、全面履盖原则

    全面覆盖，是指被控侵权物(产品或方法)将专利权利要求中记载的技术方案的必要技术特征全部再现，被控侵权物(产品或方法)与专利独立权利要求中记载的全部必要技术特征一一对应并且相同。即全部技术特征覆盖原则或字面侵权原则。即如果被控侵权物(产品或方法)的技术特征包含了专利权利要求中记载的全部必要技术特征，则落入专利权的保护范围。

    二、等同原则

    等同原则，是指被控侵权物(产品或方法)中有一个或者一个以上技术特征经与专利独立权利要求保护的技术特征相比，从字面上看不相同，但经过分析可以认定两者是相等同的技术特征。这种情况下，应当认定被控侵权物(产品或方法)落入了专利权的保护范围。

    在专利侵权判定中，当适用全面覆盖原则判定被控侵权物(产品或方法)不构成侵犯专利权的情况下，应当适用等同原则进行侵权判定。